Renrumsoverall med diagonal dragkedja

Name: Kina Diagonal Zip Hooded Cleanroom Overall Tillverkare, leverantörer och Factory - Weston
Brand: Weston
SKU: 310217035

En ren kostym. Byggd för att hålla din process ren.

En hel-kroppsanti-overall konstruerad för halvledarfabriker, elektroniksammansättningslinjer och precisionstillverkningsmiljöer där luftburna partikelkontroll inte är-förhandlingsbar. Den avgörande egenskapen: en diagonal sidodragkedja som går från axeln och ner till höften - inte centrerad, inte konventionell och operativt smartare för hur tekniker faktiskt klär sig och klär av sig i kontrollerade miljöer.

Disposable Protective Cap of SMS material in use

Varför den här overallen är annorlunda

Diagonal sidodragkedja - Inte en rak frontdragkedja

Dragkedjan löper i vinkel från överkroppen diagonalt ner till sidomidjan. Det här är inte ett stylingval - det betyder att plagget öppnas bredare för snabbare på- och avtagning, minskar risken för kontaminering från mitten av-bröstexponeringen och fördelar stängningsspänningen jämnare över kroppen. Hatten, jackan och byxorna är sammankopplade som en enhet.

Integrerad huva med bakjustering

Huvan ansluts direkt till overallkroppen utan mellanrum vid halsen. En bakre justeringsflik gör att huven kan dras åt eller lossas utan att ta bort dräkten -, vilket är avgörande när arbetare behöver återförsluta efter kort exponering.

Paneler i öronnät

Mesh-insatser som andas på båda sidor av huven minskar värmeuppbyggnaden under längre arbetspass. Renrumsmiljöer är klimatkontrollerade-, men kroppsvärme är en riktig komfort- och fokusfråga under 8-timmarsperioder.

Bröstficka + Sidopennficka

En liten bröstficka och en dedikerad pennficka på sidan är placerade för att hålla verktyg åtkomliga utan att arbetarna behöver hantera externa föremål i renrummet. Båda är utformade för att stängas helt, vilket minimerar risken för att partikel-föremål blir exponerade.

Dubbla-lagermanschetter

Handledsmanschetterna är dubbla-lager för att skapa en tätare försegling vid handskgränssnittet, vilket minskar partikelinträngning vid en av kontaktpunkterna med högst-risk på en overall.

Tekniska specifikationer

Parameter	Specifikation
Materialsammansättning	98 % polyester + 2 % ledande fibrer
Tyg typ	100D Grid Mesh
Laddningsdensitet	1,2 MC/M
Friktionsspänning	< 300V
Ytmotstånd	10⁶ – 10⁹ Ω
Tillämplig renrumsklass	ISO klass 6–7 (hundra/tio klass)
Tillämplig industri	Tillverkning av halvledare/elektronik
Överensstämmelsestandard	GB 12014-2019

Prestandatestdata

Egendom	Prestanda
Anti-statisk	Klarar GB 12014-2019 elektrostatiska krav
Dammbarriär	Effektiv partikelfiltrering från människokroppens utsläpp
Renlighet	Lämplig för kontrollerade renrumsmiljöer
Friktionsspänning	< 300V (tested per standard)
Ytmotstånd	10⁶ – 10⁹ Ω (anti-statiskt område)

Fördelning av designdetaljer

Särdrag	Detalj
Dragkedja stil	Diagonal dragkedja i sidan, axel till höft
Huvanslutning	Integrerad - huva, jacka och byxor sammanfogade som en
Huvjustering	Bakre dragflik- för passform utan fullständig borttagning
Öronsektion	Andningsbar meshpanel - ventilation utan mellanrum
Maskintegration	Fäst ansiktsmask med separat näsa/mun tätning
Handledsstängning	Dubbla-elastiska muddar
Midja	Elastiskt midjeband - passande siluett, inte boxig
Bröst	Liten tryckknapp-stäng innerficka
Sida	Penna/markeringsficka
Ärm	Överarmsficka - passar kulspets eller märkpenna
Kardborrejustering	Kard-och-ögleflikar för huva och ärmpassning

Var denna overall används

1. Tillverkning av halvledarskivor

I waferfab-miljöer riskerar alla partiklar över 0,1 mikron avkastningsförlust. Den här overallen används av tekniker som arbetar vid fotolitografistationer, diffusionsugnar och utrustning för kemisk ångavsättning (CVD) där hel-kroppstäckning utan exponerad hud vid handleden eller halsen är standardprotokoll.

2. Elektronikkomponentmontering

PCB-sammansättningslinjer som hanterar SMD-komponenter och ESD-känsliga IC:er kräver anti-statiska plagg klassade inom intervallet 10⁶–10⁹ Ω. Denna overall uppfyller den specifikationen och används i våglödningsområden, inspektionsstationer och omarbetningsbänkar.

3. Precisionsoptik och fotonik

Linsbeläggningskammare och lasermoduler kräver inte bara anti-statisk täckning utan strikt partikelantal. Den integrerade huvan och den anslutna byxdesignen eliminerar partikelgapet som finns i två-plagg.

4. Mikrobiologiska forskningslaboratorier

I forskningsmiljöer där renrumsplagg också är en kontamineringsbarriär, minskar ansiktsmaskintegreringen och en enda-enhetsdesign kors-risken för korskontamination som uppstår om man tar på sig en huva, mask och kostym separat.

5. Farmaceutisk och medicinsk utrustningsproduktion

GMP-miljöer kräver full spårbarhet och prestandadokumentation. Efterlevnaden av standarden GB 12014-2019 för denna overall stöder revisionskrav i kvalitetskontrollprogram för medicinsk utrustning och läkemedelstillverkning.

Verkligt-World Use Case

En medelstor- halvledarförpackningsanläggning i Suzhou upplevde förhöjda partikelantal under skiftbyten. Undersökning visade att plagg i två-delade design genererade partiklar vid midjegapet under avtagningen. Byte till en enda-enhetsdiagonal-blixtlåsdesign minskade kroppen-, vilket minskade kontamineringshändelser genom att standardisera påtagningssekvensen och eliminera mitt-kroppsexponering under zip-öppen fas.

Detta är det exakta problemet som den här overallens anslutna huva-jacka-byxkonstruktion och diagonal dragkedja byggdes för att lösa.

Vanliga frågor

F: Varför är dragkedjan diagonal snarare än rakt ner framtill?

S: Den diagonala vägen från axel till sidohöft betyder att plagget öppnas i sidled istället för att delas ner i mitten framtill. Detta skapar en bredare öppning för inträde, minskar exponeringen i mitten- av bröstet under påtagning och gör att den integrerade huvan förblir i linje med kroppen utan att dra eller vrida sig. För arbetare som klär av och på flera gånger per skift minskar detta risken för kontaminering under varje övergång.

F: Är detta ett-stycke eller kan huven tas loss?

S: Huvan, jackan och byxorna är permanent sammankopplade som ett enda plagg. Det finns ingen avtagbar version av denna design. Den integrerade konstruktionen är kärnan i dess partikel-barriärprestanda - en separat huva skapar ett gränssnittsgap som denna overall eliminerar genom design.

F: Innehåller den här overallen en integrerad ansiktsmask?

A: Ja. Ansiktsmasken är fäst och utformad för att täta över näsan och munnen, vilket blockerar damm som genereras av andning. Det är inte en filtrerande mask för kemisk exponering - det är en renrumspartikelbarriär.

F: Kan luvan justeras utan att ta bort hela kostymen?

A: Ja. Den bakre justeringsfliken gör att huvan kan dras åt på baksidan av huvudet medan dräkten är på. Kardborrband vid handleden och runt huvans omkrets tillåter också passformsjustering vid-användning.

F: Vad är ytresistansområdet och varför spelar det någon roll?

S: Ytresistansen är 10⁶ till 10⁹ Ω. Det här området är specifikt den anti-statiska zonen: tillräckligt låg för att avleda laddningsuppbyggnad på kroppen innan den når skadliga spänningsnivåer, men inte så ledande att plagget i sig blir en kortslutningsrisk.- Plagg utanför detta intervall -, antingen för resistiva eller för ledande - uppfyller ESD-säkerhetskraven för halvledar- och elektronikmiljöer.

F: Hur underhålls detta plagg?

S: Anti-renrumsoveraller kräver renrums-certifierad tvätt för att bibehålla partikelprestanda och anti-statiska egenskaper. Vanlig hem- eller kommersiell tvätt kommer att försämra både den ledande fiberfunktionen och partikelretention över tiden. Konsultera ditt tvättprotokoll för renrum för cykelgränser som är specifika för denna tygspecifikation.

F: Vilket storleksområde finns tillgängligt?

S: Kontakta Weston för aktuell storlek. Renrumsoveraller är vanligtvis tillgängliga i S till 4XL för att tillgodose kraven på lagerunderkläder i kontrollerade miljöer.

Populära Taggar: diagonal zip hooded cleanroom overall, Kina diagonal zip hooded cleanroom overall tillverkare, leverantörer, fabrik, Renrums Bouffantmössa, Engångsskyddskåpa, esd-renrumskläder, ESD-renrumsrock, ESD-huvad separat dräkt för renrum, ESD-slagsäck separat